TUGAS AKHIR PEMBUATAN DIES DENGAN METODE ELEKTROPLATING TEMBAGA NIKEL DAN KHROM DENGAN VARIASI RAPAT ARUS 3 A, 5 A, 7 A DAN WAKTU PENCELUPAN 1200 s PADA POLIMER

Santoso , Budi (2008) TUGAS AKHIR PEMBUATAN DIES DENGAN METODE ELEKTROPLATING TEMBAGA NIKEL DAN KHROM DENGAN VARIASI RAPAT ARUS 3 A, 5 A, 7 A DAN WAKTU PENCELUPAN 1200 s PADA POLIMER. Skripsi thesis, Universitas Muhammadiyah Surakarta.

[img]
Preview
PDF
D200020081.pdf

Download (232kB)
[img] PDF
D200020081.pdf
Restricted to Repository staff only

Download (1MB)

Abstract

Tujuan penelitian adalah mengetahui ketebalan dan kekerasan lapisan tembaga, nikel dan khrom pada pembuatan dies dengan bahan polimer pada proses elektroplating dengan metode penggrafitan dengan cara pencelupan benda kerja kedalam larutan elektrolit dengan menggunakan variasi arus/tegangan dan waktu pencelupan tetap. Elektroplating merupakan salah satu proses Surface Treatment (Perlakuan Permukaan) yaitu proses pelapisan permukaan dengan logam lain. Elektroplating dapat dilakukan pada logam dan bahan non logam. Proses elektroplating dengan menggunakan pelapisan Tembaga, Nikel dan Khrom yang dilakukan pada Polimer berbeda dengan yang dilakukan pada logam. Pada polimer menggunakan metode penggrafitan kemudian dilakukan proses elektroplating terhadap Polimer seperti elektroplating pada logam menggunakan konsep reduksi-oksidasi dengan menggunakan rangkaian sel elektrolisis. Baik dan buruknya hasil plating dapat dilihat dengan melihat foto struktur mikro dan hasil pengujian kekerasan hasil elektroplating tersebut. Dari hasil tersebut dapat dianalisa sebagaiana besar pengaruh distribusi besarnya rapat arus proses elektroplating tersebut terhadap hasil. Proses elektroplating Polimer dengan dimensi panjang 50 mm, lebar 50 mm, tebal 2 mm dan diameter 30 mm, Spescimen 1 variasi rapat arus 3 A waktu celup 1200 s tebal Tembaga = 54,0 µm, Nikel = 23,8 µm, Khrom = 45,2 µm, dan Kekeraan lapisan Tembaga = 147,333 Kgf / mm2, Nikel Paduan Khrom = 162,77 Kgf / mm2, Spescimen 2 variasi arus 5 A waktu celup 1200 s tebal lapisan Tembaga = 49,8 µm, Nikel = 34,8 µm, Khrom = 49,4 µm, dan Kekeraan lapisan Tembaga = 182,3 Kgf / mm2, Nikel Paduan Khrom = 292,73 Kgf / mm2, dan Spesciment 3 variasi arus 7 A waktu celup 1200 s tebal lapisan Tembaga = 56,2 µm, Nikel = 37,2 µm, Khrom = 52,4 µm, dan Kekeraan lapisan Tembaga = 396,6 Kgf / mm2, Nikel Paduan Khrom = 415,2 Kgf / mm2.

Item Type: Thesis (Skripsi)
Uncontrolled Keywords: Polimer, Elektroplating, Ketebalan, Struktur Mikro, Kekerasan
Subjects: T Technology > TA Engineering (General). Civil engineering (General)
Divisions: Fakultas Teknik > Teknik Mesin
Depositing User: Gatiningsih Gatiningsih
Date Deposited: 28 May 2009 01:49
Last Modified: 17 Nov 2010 04:13
URI: http://eprints.ums.ac.id/id/eprint/1732

Actions (login required)

View Item View Item