Novianto, Yudit (2008) PENGARUH KETEBALAN DAN KEKERASAN PADA PEMBUATAN DIES DENGAN METODE ELEKTROPLATING TEMBAGA, NIKEL DAN KHROM DENGAN RAPAT ARUS 5 AMPERE DAN VARIASI WAKTU PENCELUPAN 1200 s, 1800 s, 2400 s PADA POLIMER. Skripsi thesis, Universitas Muhammadiyah Surakarta.
![[img]](http://eprints.ums.ac.id/style/images/fileicons/application_pdf.png)
|
PDF
D200020158.pdf Download (213kB) |
|
|
PDF
D200020158.pdf Restricted to Repository staff only Download (2MB) |
Abstract
Tujuan penelitian adalah mengetahui ketebalan dan kekerasan lapisan tembaga, nikel dan khrom pada pembuatan dies dengan bahan polimer pada proses elektroplating dengan metode penggrafitan dengan cara pencelupan benda kerja kedalam larutan elektrolit dengan menggunakan arus/tegangan dan variasi waktu pencelupan. Penelitian diawali dengan persiapan bahan dasar berupa polimer yang sudah dicetak, kemudian dilapisi dengan menggunakan metode penggrafitan dengan konsep adhesi – kohesi. Setelah selesai, dilanjutkan elektroplating terhadap polimer, menggunakan konsep reduksi-oksidasi dengan menggunakan rangkaian sel elektrolisis. Dengan variasi waktu penahanan celup, yaitu Tembaga untuk semua speciment benda kerja adalah selama 1200 s, 1800 s, 2400 s, Nikel untuk semua speciment benda kerja adalah 1200 s, 1800 s, 2400s, Khrom untuk semua speciment benda kerja adalah 1200, 1800 s, 2400 s. Pengujian foto struktur mikro dan kekerasan (vickers) dilaksanakan untuk menganalisa pengaruh penahanan celup proses elektroplating tersebut terhadap hasil. Pada proses elektroplating Polimer dengan dimensi panjang 50 mm, lebar 50 mm, tebal 2 mm dan diameter 30 mm, Percobaan 1 dengan rapat arus 5 ampere dengan waktu pencelupan Tembaga, Nikel dan Khrom 1200 s, tebal dan kekerassan lapisannya, Tembaga = 47,5 µm, 110,7667 Kgf / mm2, Nikel = 22,5 µm, dan Khrom = 48,75 µm, 184,73 Kgf / mm2, Percobaan 2 dengan rapat arus 5 ampere dengan waktu pencelupan Tembaga, Nikel dan Khrom 1800 s, tebal dan kekerasan lapisannya, Tembaga = 63,8 µm, 130,6 Kgf / mm2, Nikel = 25 µm, dan Khrom = 20,5 µm, 236,63 Kgf / mm2, dan Percobaan 3 dengan rapat arus 5 ampere dengan waktu pencelupan Tembaga, Nikel dan Khrom 2400 s. tebal dan kekerasan lapisan Tembaga = 100 µm, 159,0333 Kgf / mm2, Nikel = 30 µm dan Khrom = 61,7 µm, 363,70 Kgf / mm2.
| Item Type: | Karya ilmiah (Skripsi) |
|---|---|
| Uncontrolled Keywords: | Polimer, Elektroplating, Ketebalan, Struktur Mikro, Kekerasan |
| Subjects: | T Technology > TJ Mechanical engineering and machinery |
| Divisions: | Fakultas Teknik > Teknik Mesin |
| Depositing User: | Ari Fatmawati |
| Date Deposited: | 17 Mar 2009 02:18 |
| Last Modified: | 19 Feb 2011 04:06 |
| URI: | http://eprints.ums.ac.id/id/eprint/1050 |
Actions (login required)
 |
View Item |
